提升生产效率 东京电子将向ASML提供光刻技术支持

　　【手机中国新闻】近日据外媒报道称，日本半导体制造设备东京电子（Tokyo Electron）计划向荷兰ASML和比利时IMEC实验室提供技术支持，并与ASML生产的EUV（极紫外）光刻设备进行组合，提升开发竞争力。

ASML

　　据了解，此次东京电子将为ASML提供全新的镀膜以及显影技术，例如全新的“涂布显影设备(Coater Developer)”，可提高半导体的生产效率。另外，东京电子计划最早在2022年上半年提供相关的技术支持，与ASML组合打造的新设备则计划最快于2023年投入使用。

　　目前荷兰ASML生产的EUV光刻机支持制造5nm芯片，而此次开发的新一代EUV光刻设备将支持3nm芯片的量产工作。

　　此前有消息称ASML新一代EUV光刻机最快将在2023年问世，不过受到多方面条件影响，新一代光刻机似乎要延迟到2025-2026年才能问世。另外，二代EUV光刻机的价格也将大幅提升，预计将达到3亿美元。

版权所有，未经许可不得转载