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提升生产效率 东京电子将向ASML提供光刻技术支持

手机中国 【原创】 作者:陈思学 2021-06-11 10:06
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  【手机中国新闻】近日据外媒报道称,日本半导体制造设备东京电子(Tokyo Electron)计划向荷兰ASML和比利时IMEC实验室提供技术支持,并与ASML生产的EUV(极紫外)光刻设备进行组合,提升开发竞争力。

ASML
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  据了解,此次东京电子将为ASML提供全新的镀膜以及显影技术,例如全新的“涂布显影设备(Coater Developer)”,可提高半导体的生产效率。另外,东京电子计划最早在2022年上半年提供相关的技术支持,与ASML组合打造的新设备则计划最快于2023年投入使用。

提升生产效率 东京电子将向ASML提供光刻技术支持

  目前荷兰ASML生产的EUV光刻机支持制造5nm芯片,而此次开发的新一代EUV光刻设备将支持3nm芯片的量产工作。

  此前有消息称ASML新一代EUV光刻机最快将在2023年问世,不过受到多方面条件影响,新一代光刻机似乎要延迟到2025-2026年才能问世。另外,二代EUV光刻机的价格也将大幅提升,预计将达到3亿美元。

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